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   在冶炼碳化硅时，之所以会出现粗细不均勾，主要在于炉心装置不均匀，例如尺寸不均、加压不均、有大块杂物等。另外，炉心下部料密度过低，造成炉心下沉多，易发生下沉不均现象；炉心上部料高度不均造成对，硅球价格，炉心的压力不均等都会引起结晶筒的粗细不均勾。采用小炉心时，这一现象更易发生。

   炉心截面小的地方电阻大，硅球产品，电流通过时产生热量多，炉温较高，sic分解层增厚，炉心扩大的结果使炉阻减小的速度较快。反之炉心截面大的地方，由于sic分解而造成的炉心扩大就比较慢。这样就自动缩小了炉心截面积之间的差距。但是这种自动调节作用也有一定的限度。

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硅原子有如此结构，所以有其一些特殊的性质：外层的4个价电子让硅原子处于亚稳定结构，这些价电子使硅原子相互之间以共价键结合，由于共价键比较结实，硅具有较高的熔点和密度；化学性质比较稳定，常温下很难与其他物质发生反应；硅晶体中没有明显的自由电子，能导电，但导电率不及金属，且随温度升高而增加，具有半导体性质。

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